Verfahrensbeschreibung
Das MOCVD-Verfahren basiert auf den gleichen Prinzipien wie klassische CVD-Verfahren. Der Unterschied liegt in der niedrigeren Temperatur und dem nicht nötigen Vakuum für den Prozessablauf.
Aufbauend auf dem Basispatent unseres Entwicklungspartners AkzoNobel geschieht das Einbringen der Teile in die Beschichtungskammer über Schleusen. Nach erfolgter Inertisierung des Beschichtungsraumes und gleichzeitiger Trocknung der Bauteile werden diese auf eine Temperatur gebracht, die den Bedingungen des Prozesses und den thermischen Grenzen der Bauteile entspricht. Danach wird ein geeigneter Precursor in die Beschichtungskammer eingebracht. An der Oberfläche der Bauteile erfolgen dann die für CVD-Verfahren übliche Zersetzung des Precursors und die Abscheidung des Metalls.
Überschüssiger Precursor wird dem Prozess über ein Recyclingsystem erneut zugeführt. Die entstehenden Abgase werden über übliche Wäschesysteme gereinigt.
Nach erfolgter Beschichtung wird der Gasraum durch Spülen vom Precursor gereinigt und gleichzeitig werden die Bauteile gekühlt. Die Bauteile können trocknen und ohne Verschleppung von Medien entnommen werden.
Die Verfahrensvorteile auf einen Blick:
- Einfache Schleusengestaltung wegen Normaldruck
- Niedriger Energieverbrauch im Vergleich zu elektrolytischen Abscheideverfahren
- Hohe Abscheiderate von ca. 1µm/min
- Uneingeschränkt kompatibel zu allen bekannten Vor- und Nachbehandlungsverfahren
- Einsatz als Band-, Gestell- und Vibro-Verfahren sowie für Sonderapplikationen (Innenbeschichtung von Rohrsystemen)
